後頭葉形態学的解剖学
解剖学的および外科的側面
Leandro Pretto Flores1
概要-背景：後頭葉は中枢神経系の重要な領域であり、さまざまな病変の部位です。解剖学的構造がすでに細心の注意を払って詳細に説明されている脳の他の領域とは異なり、後頭葉の形態に関する論争は、後頭葉への外科的アプローチを妨げる場合があります。方法：26個の半球を解剖し、後部半球間裂領域の内側構造の距離を調べた。側面でより頻繁に見られる溝と脳回を特定する。側脳室の後頭角の解剖学的構造の詳細。また、鳥距溝や後頭前切痕などの構造の解剖学的詳細を評価しました。結果：24の半球（92％）は、外側の表面に明らかな横方向の軌道を伴う溝を示し、16（61％）で顕著な縦方向の溝を識別することができました。すべての標本は、この論文で下横後頭溝とラベル付けされた葉の下3分の1に横後頭溝を示し、症例の69％は上横後頭溝とラベル付けされた上3分の1に横後頭溝を示しました。後頭葉は、53％の症例で葉の前縁のレベルに存在していました。それは半月形の空洞であり、その内壁は鳥距によって形成され、外壁、屋根、床はタペータムの繊維によって形成されていました。結論：後頭葉は、解剖された脳のほとんどでしばしば認識されるパラメーターを提示し、脳のこの領域での手術の計画と実行に役立つ可能性があります。
キーワード：後頭葉、解剖学、手術。
Anatomiamorfológicadolobooccipital：aspectosanatômicosecirúrgicos
RESUMO-はじめに：Olobooccipitaléumaimportanteregiãodosistemanervoso centralelocaldeocorrênciadeampla Diferente deoutrasregiõesdocérebro、cujaanatomiajáfoimeticulosamentedetalhada、aindaexistemcontrovérsiasarespeidotopólooccipitalqueocasionalmentepodem dificultarcirurgiassobreestaregião。 MÉTODO：Foram dissecados26hemisférioscerebrais、examineando-sedistânciasdealgumasestruturaslocalizadasnaregiãodafissurainteremisféricaposterior、identificando os sulcos e giros maisquentemente encontrados na facelateral do lobo oc 。 Tambémforamavaliadosdetalhesanatômicosdeestruturascomoo sulcocalcarinoeincisurapré-occipital。結果：Em24hemisférios（92％）foram identificados sulcos com trajetos transversaisは、顔の横方向のドロボ、sendo que sulcos longitudinais foram observados em16peças（61％）を明らかにします。 Emtodasfoipossívelidentificarumsulcotransversalcompletonoterço劣るdolobo¾denominadonesteestudocomo sulcotransverso劣る¾e69％doshemisfériosdemonstraramumsulcotransversonoterçosuperior¾de O cornooccipitalestendia-seatéolobooccipitalem apenas 53％daspeças、e em todas apresentava-se como uma cavidade em forma de meia-lua、cuja parede medial era formada pelo calcar-avis ea paredelateral、teto e assoalho do ventrículoformadaporfibrasはタペータムを行います。結論：O lobooccipitalapresentaparâmetrosanatômicosquesãoreconhecíveiserepetidosnamaioriadoscérebrosdissecados。 Estesparâmetrospodemserúteisnaorientaçãodecirurgiasrealizadasnesteregiãodoencéfalo。
PALAVRAS-CHAVE：後頭葉、解剖学、外科手術。
後頭葉は中枢神経系（CNS）の重要な領域であり、視覚に関与しています。この葉の研究は通常、その感覚機能と視覚経路の統合に集中しており、時にはその形態学的構造が見過ごされています1-4。それは頭頂葉の後部延長であり、その独特の機能のために任意に分割され、この領域の研究と研究を容易にします。課せられた制限は、後頭葉に三角形の形状を与え、頭頂後頭（PO）溝によって内側表面に描かれます。 PO溝の端を後頭前切痕に接続する架空の線によって側面に-ラベル付けされた頭頂側線。後頭前切痕を鳥距溝の始まり（鳥距溝から出ているところ）に接続する別の線による下面（テント）¾ラベル付きのパリエト側頭基底線5,6。このように、設定された制限によって課せられるように、その後に局所化されたすべての神経構造は視覚機能に関連します。この葉には、視覚に関連する3つのブロドマム領域（17、18、および192）があります。後頭葉に描かれている脳回はほとんどありません。その内側の表面には、楔部、鳥距溝とPO溝の間に局在する脳回があります。鳥距溝の下、葉のテント面には舌状回があります。側副溝は、舌状回を紡錘状回から分離します。紡錘状回は、後頭側頭溝によって横方向に描かれています。葉の側面については、命名法はまだ十分に定義されておらず、ほとんどのテキストは、この領域の説明を「多様な溝と不定の脳回」として制限しています7-9。溝の命名法についてはほとんど合意がありません。最も一般的に説明されているのは、後頭極領域で識別される垂直溝である月溝です。横後頭溝の中で、最も頻繁に引用されるのは、後頭横後頭溝と外側後頭溝です。他の著者は、側面の溝を下後頭および上後頭として説明しています6,10。
後頭葉の深部物質は、視覚野から突出または出現する有髄線維によって形成された白質で構成されており、側脳室の後頭角が見られることもあります。後頭角壁は通常次のように説明されます：屋根と側壁を形成するタペタム（繊維は脳梁の脾臓を形成します）、床は側副隆起によって形成されます（脳梁の側副溝のくぼみに対応します） 、および鳥距溝（鳥距溝の最深部）11および脳梁の球根（後頭角の内壁の上面を形成する脾臓から後葉までの線維）による内壁7 。
後頭葉は多種多様な病変の部位であり、外科医は直接アプローチするか（後頭神経膠腫の切除など）、または通過する必要がある場合があります（深部構造や脳室へのアプローチなど）。松果体または脾臓）12-16。この葉の表面的な形態学的関係の知識とその空間的関係の特定は、皮質下病変へのアプローチを容易にし、深い構造へのより安全なアクセスを可能にします。したがって、その構造、主に葉の側面に関連する構造の識別と正規化が重要です。この研究の目的は、脳のこの領域を解剖学的にマッピングして、この葉の外科的処置を容易にすることです。
方法
13の剖検標本の脳を解剖し、合計26の半球を採取しました。脳は、死後の操作または病状を示さなかったもののみを使用して、ホルムアルデヒドの4％溶液で固定された。性別は、この研究の除外基準とは見なされませんでした。すべての標本は成人の脳でした。
標本の準備のために、脳幹を大脳脚のレベルで切断し、半球を正中矢状断面で分離しました。軟膜と血管を繊細に除去して脳溝を露出させ、より良い視覚化を可能にしました。各大脳半球の解剖は、3つのステップのシーケンスで実行されました。最初に、それは半球の内側表面構造を特定し、主に鳥距溝とPO溝の全体的な拡張を特定しました。その後、後部領域の半球間裂へのアプローチに関心のある距離がマークされました。すべての距離は、脾臓の最も後方の部分を主要な基準点として使用して測定されました（表1）。 2番目のステップは、葉の外側表面の解剖で構成され、外側の頭頂側頭線に後から局在化した溝のパターンを研究しました。このステップでは、後頭前切痕の解剖学的構造も研究されました。最後に、葉は脳の残りの部分から分離され、内側はPO溝のレベルで、外側は頭頂側頭線のレベルでセクションを作成しました。測定は、主に後頭角の心室壁などの深い構造で行われました。内側および外側表面の主溝の深さも評価されました。 2番目のセクションは最初のセクションの10ミリメートル後方に作成され、同じ構造の新しい測定が行われました。
結果
鳥距溝が海馬傍回から直接出現し、存在していたことが観察されました。調べたすべての半球の完全な溝として。 12の半球では、側枝は観察されませんでした（46％）、10では1つだけ（38％）、4では鳥距溝への2つの側枝がありました（15％）。これらの側枝に関連して、14（77％）が鳥距溝に垂直な軌道で観察され、4（23％）が平行な軌道で観察されました。側枝溝の88％は、PO溝の出現の事後的に同定されました。
表1は、後頭葉の内側表面で測定された距離の結果をまとめたものです（図1）。
後頭葉の側面では、ほとんどの標本で溝のパターンが決定されていました。 24個の半球（92％）は明らかな横方向の軌道を伴う溝を示し、16個の半球では顕著な縦方向の溝（61％）を特定することができました。横後頭溝が確認されたすべての半球は、葉の下3分の1に局在する溝を示し、下横後頭溝としてラベル付けされました。これは、すべての標本で、完全な溝として提示されました。 18半球（69％）で葉の中部または上3分の1に限局した溝を特定することができました¾これは上横後頭溝とラベル付けされました¾そしてこれはわずか10半球（55％）で完了しました。たった1つのケースで、3番目の横後頭溝が前述のラベル付き中央横後頭溝の間に局在することが観察されました。縦溝を特定することができた16の半球のうち、月の溝は12で特定されました（標本の46％）。ほとんどの症例は、後頭葉を3つの脳回下、中、上後頭に分割することを可能にする横後頭溝のパターンを示しました（図2）。
また、後頭極から後頭前切痕までの距離を確認しました。この距離は、30〜61 mm（平均44）の範囲で、半球間でほぼ不均一でした。それらのすべてにおいて、後頭前切痕は、それが下側頭回に達する下側頭回の後部によって形成された、皮質表面の下外側境界の深いくぼみに対応していた。
表2は、PO溝のレベルで作成された最初のセクションと、前のセクションの10mm後方の2番目のセクションで測定された溝の深さを示しています。すべての溝は前方に深くなり、極に近づくにつれて浅くなる傾向がありました。側脳室の後頭角は、最初のセクションのレベルで14の半球（53％）で識別されました。そして2番目のセクションのレベルでたった1つの標本で。後頭角の解剖学的構造はすべての標本で一貫していた：内壁が鳥距に対応し、タペータム繊維で構成される凸状の壁によって横方向に形成されるように、半月形であった。床も、側副隆起や球根の存在も観察されませんでした（図3）。後頭角の端から脾臓までの平均測定値は18mmで、15〜32mmの範囲で変化しました。
ディスカッション
神経外科医が後頭葉領域で働く必要がある状況はたくさんあります。原発巣の直接介入だけでなく、葉の下にあるより深い構造へのアプローチのためでもあります12,13,16。テクノロジーはすでに、神経ナビゲーションなどの最新の術中ローカリゼーションツールを提供していますが、解剖学自体の知識は、手術行為の計画と実行において外科医の最大の味方です。解剖学的構造がすでに細心の注意を払って詳細に説明されている脳の他の領域とは異なり6、後頭領域については論争があり、その領域がこの葉への外科的アプローチを妨げることがあります4。
鳥距溝は、後部半球間裂領域の最も重要な解剖学的基準です8。本研究から得られたデータは、それが常に海馬傍回から出現し、それが少数の側枝を有する溝であることを示した。この情報は、この領域の手術での識別を容易にすることができます。内側表面からの測定された距離は、目印として脾臓、鳥距溝および脳梁を有する、この領域の解剖学的地図の構成を可能にする。これらの結果は、小野らによって行われたいくつかの測定と比較されました6。これらの著者は、脳溝に関する研究で、鳥距溝およびPO溝と同様の測定値を発見しました。結果は非常に似ていました。例として、鳥距溝の端から脾臓までの距離-両方の作業で58mm。またはPO溝の延長-小野らによる研究では34mm6、本論文では35mm。
結果は、葉の側面に関連して、興味深い情報をもたらしました。神経解剖学のほとんどのテキストで引用されているものとは異なり5-7、10、17、後頭葉は、検査された標本で繰り返される傾向のある溝のパターンを持っています。横後頭溝は半球の92％で確認され、それらのほとんどは同じ場所で見つかりました。縦溝の頻度は低かったが、62％の症例で観察された。したがって、このデータは、葉が定義された解剖学的構造を示し、この情報がこの領域に近づく外科医に役立つ可能性があることを示しています。下横後頭溝が最も頻繁に同定された溝であり、ほとんどの標本で完全でした。したがって、後頭部の側面への手術の解剖学的ランドマークとして使用できます。上横後頭溝は半球の62％でのみ観察され、ほとんどの半球で中断され、外科的基準としての価値が低下しました。 Oka et al.18は、外側後頭葉とラベル付けされたマークされた溝が1つだけあり、下大静脈と上後頭葉の2つの脳回に分割されている領域として側面を説明しました。本論文は、側面の横後頭溝が、上、中、下後頭とラベル付けできる3つの脳回を描写していることを示している。
後頭前切痕は、専門の神経解剖学の文献では十分に定義されていない解剖学的構造です5,6,17,19。ほとんどのテキストは、この構造を側頭葉の後部境界または後頭葉の前端として引用しています5,10,19、最も一般的には後頭極の50mm前方に位置します7。本研究のすべての標本において、後頭前切痕は、上側頭回の後部を下後頭回の最前部に結合した（下側頭後頭溝よりも下に局在した）。その位置はかなり変動し、後頭極から平均44mmの位置にありました。また、後頭極とPO溝の出現との間の平均距離は35mmでした。後頭葉切除術の伝統的な限界は、後頭極から左35 mm、右70mmの切除です16。この研究で特定されたパラメータによると、従来の基準を利用した右後頭葉の切除には、頭頂葉の一部が含まれます（病変の拡大によっては、それが望ましい場合もあります）。
Timurkaynak etal。側脳室の解剖学に関する彼らの論文では、後頭葉は床、内壁、外壁を備えた構造として説明されています11。本研究は、後頭葉のレベルで、後頭角がすでに異なる解剖学的構造を持っていることを示しています。それが提示された標本では、すべてが半月形の空洞を示し、その壁を形成する側副隆起は観察されませんでした。症例のちょうど半分で、葉の前部境界のレベルに心室腔があったことも観察された。そのため、外科医は、実行されたすべての後頭葉切除術で後頭角を見つけることを期待すべきではありません。これに加えて、後頭角は、PO溝の出現のレベルまで前方にその端を持っている傾向があります。この情報は、後半身裂肛で作業するときに役立ちます。外科医が心室を貫通する場合、心房に近い楔前部にいることを検討する必要があります（明らかに、術前の放射線検査は、後部の伸展を確認するのに役立ちます。心室）。
結論として、後頭葉は脳の領域であり、さまざまな検査セクションで繰り返される傾向のある解剖学的パラメーターを示します。この情報は、脳のこの領域に近づくときの外科的計画に役立ちます。
謝辞-標本の準備を支援してくれたDinaldode LimaLeite氏に感謝します。
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